Процесс предназначен для получения компактных, полублестящих цинковых покрытий с поверхностью, обладающей высокой адгезией к ЛКП, в том числе и порошковым.
Плотность тока, А/дм2;0,2-3,0
Температура, C;18-50
рН;4.5-6.0
Аноды;Цинк Ц0,Ц1
Скорость осаждения, мкм/мин;0,04-1,0
Соотношение анодной и катодной поверхности; От 1:1 до 1:1,5
Внимание технологов! Опыт промышленной эксплуатации показал, что во всех слабокислых электролитах цинкования замена борной кислоты на ацетат натрия позволяет значительно повысить буферную емкость электролитов в диапазоне pH 4,5-6,0. Добавка ЦКН-2 расходуется только с уносом электролита